分体式高剪切陶瓷胶体磨,分体式氧化锆陶瓷胶体磨,分体式用来处理一些电池浆料,电池隔膜,电子浆料,碳纤维电容浆料zui高转速可以达到14000RPM。GM2000系列分体式胶体磨是中德合作研发项目，磨头配合精密度高，相对于国产胶体磨此款胶体磨比普通的胶体磨的运转速度达到4-5倍以上，定转子配合间隙在0.2-0.3mm之间，分散乳化均质研磨效果非常好。
的磨头有氧化锆陶瓷组成,特别适合一次研磨后不带电的一些材料,如电子,电池,镀膜等等行业
是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产 生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和 粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。

高剪切主要用途：

高剪切胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能琪到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的较较较较较较先进水平。

思峻高剪切优势：

GM2000系列是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GM2000的 线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突 起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不 同行业的多种要求。

三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,zui大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

以下特点 

• 结合优良的研磨效果的高吞吐量
• 定制不同的研磨刀头，实现多种研磨剪切速率
• 为减少颗粒大小的控制，可无限调整定子/转子之间的间隙设置
• SKN胶体磨GM与生产系统的密实度作为机器联机设计的结果。
• 适合于粘度高达50,000 mPas的各种粘度范围的物料
• 能在高达16 bar的压力下操作
• 容易扩大规模生产，从实验室机器MK开发到生产机器MK
• 所有接触液体的部件为316L或316Ti不锈钢
• 具有耐磨材料的高性能机械密封密封
• 高质量的表面处理，便于清洗
• 可根据要求提供其他材料和表面处理
• 机器可自动排水，具有GSP和SSP功能
• 噪音低
• 根据符合EHEDG（欧洲卫生工程设计集团）准则制造
• 符合3A卫生和认证
• 根据需要提供制药
• 根据提供的ATEX 95指导方针执行防爆

设备等级：化工级、卫生S级、卫生SS级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择：380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件：PTG热保护、降噪型
胶体磨材质：SUS304、SUS316L、SUS316Ti
胶体磨选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
胶体磨表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
胶体磨选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

1表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。

3如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准。

5本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料；物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。